Mis va titan plitalarining panjara turi, erish nuqtasi, issiqlik o'tkazuvchanligi, chiziqli kengayish koeffitsienti va kimyoviy tarkibi juda farq qiladi, shuning uchun payvandlash juda qiyin.
1. Payvand choklari teshiklarga moyil
(1) Mis va titan yuqori haroratlarda kuchli vodorodni singdirish qobiliyatiga ega va vodorod suyuq mis va titanda ko'proq eriydi.
(2) Yuqori haroratli metallurgiya reaktsiyasi eritilgan hovuzda gaz hosil bo'ladi.
(3) Payvandlash joyi atrofidagi kislorod va azot gazi erigan hovuzga botiriladi. Eritilgan hovuzning kristallanish jarayonida barcha gaz erigan hovuz yuzasidan chiqib keta olmaydi va teshiklarni hosil qilish uchun payvandda qoladi.
2. Payvandlangan bo'g'inlar yorilishga moyil
Mis va titanni payvandlaganda, ikkita asosiy materialning metall tomonlarida evtektik va gidrid hosil bo'lishi mumkin, bu esa payvandlash kuchlanishi ta'sirida osongina yoriqlarga olib kelishi mumkin.
(1) Mis va vismut 270 daraja evtektik nuqtasi bilan (Cu+Bi) evtektika hosil qiladi.
(2) Mis va alyuminiy 326 daraja evtektik nuqtasi bilan (Cu+Pb) evtektika hosil qiladi.
(3) Mis va temir sulfid evtektik nuqtasi 1067 daraja bo'lgan evtektik (Cu+Cu2O) hosil qiladi.
(4) Titaniumli asosiy materialning metall tomonida vodorodning mo'rtlashishiga olib keladigan parchaga o'xshash gidrid TiH2 hosil bo'ladi.
(5) Mis va titanning chiziqli kengayish koeffitsientlari 1 barobardan ko'proq farq qiladi, bu esa payvandlash paytida katta stressni keltirib chiqaradi.
3. Payvandlangan birikmalarning mexanik xossalari past
(1) Oksid plyonkasi mis va titan o'rtasidagi granulalararo bog'lanishni zaiflashtirishi mumkin. Masalan, payvand chokidagi kislorod miqdori 0,38% ga yetganda, bo'g'inning egilish burchagi 180 darajadan 120 darajaga kamayadi.
(2) Ko'p miqdorda evtektik va gidridlar payvandlangan bo'g'inlarning plastisitivligi va mustahkamligini sezilarli darajada kamaytiradi.
(3) Mis va titanning o'zaro eruvchanligi juda kichik va intermetalik birikmalar yuqori haroratlarda osongina hosil bo'ladi. Ti2Cu, TiCu, Ti3Cu4, Ti2Cu3, TiCu2 va TiCu4 kabi mo'rtlikni oshiradi, plastisitni kamaytiradi va payvand chokining korroziyaga chidamliligini sezilarli darajada kamaytiradi.
Mis va titanium yoki titanium qotishmalari o'rtasida vakuum diffuziyali payvandlash, argon boshq manbai, plazma boshq manbai, payvandlash va elektron nurli payvandlash orqali mukammal payvandlash birikmalarini olish mumkin.
Masalan: vakuumli diffuzion payvandlash qo'llaniladi. Vakuumli diffuzion payvandlashning xarakteristikalari shundaki, bo'g'inlar oksidlanmaydi, payvand choklari chiroyli ko'rinishga ega va mahsulot sifati yaxshi. Asosiy operatsiya jarayoni: payvandlashdan oldin mis asosiy metall (masalan, T2) yog 'qoralari va boshqa aralashmalarni olib tashlash uchun trikloretilen bilan tozalanadi. Keyin 10% li sulfat kislota eritmasida 1 minut davomida ishqalanadi, distillangan suv bilan yuviladi va keyin tavlanadi. Yuvish harorati 820 ~ 830 daraja va tavlanish vaqti 10 minut.
Titan asosiy metallni (TA2) trikloretilen bilan tozalagandan so'ng, oksid plyonkasini olib tashlash uchun uni 2% hajmli HF va 50% hajmli HNO3 suvli eritmasida 4 daqiqa davomida tebranish usulidan foydalaning va keyin tozalang. suv va alkogol bilan.
(4) Ikkita tozalangan asosiy metallni jarayon talablariga muvofiq yig'ing va keyin ularni payvandlash uchun vakuumli pechga qo'ying. Payvandlash parametrlari: payvandlash harorati 810 daraja ±10 daraja, bosim 5 ~ 10MPa, vaqt 10 min va vakuum darajasi 1,3332 × 10-8 ~ 1,3332 × 10-9 MPa. Ikki asosiy metallar orasiga oraliq diffuziya qatlami qo'shilishi mumkin. Odatda, diffuziya qatlami materiali niobiy metalldir yoki oraliq diffuziya qatlami talab qilinmaydi. Payvandlashdan keyin qo'shma sirtni ehtiyotkorlik bilan tozalang.
Argon boshq manbai mis va titanni payvandlash uchun ishlatilsa, serium volfram elektrodlarini tanlash payvandlash sifatini yaxshilash va inson salomatligiga foyda keltirishi mumkin. Misol uchun, mis qotishmasi (QCr0.5) va titanium qotishmasi (TC2) payvandlashda niobiy o'tish qatlami materiali sifatida ishlatilishi mumkin va yuqori sifatli bo'g'inlarni olish uchun argonning tozaligi 99,8% ni tashkil qiladi.
